Advances In Research And Development
Plasma Sources For Thin Film Deposition And Etching
Estado :
Segunda-mão: Muito bom estado
Estados : Segunda-mão: Muito bom estado
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Vendido por
País de expedição : França
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Antigo livro de biblioteca. Edição 1994. Volume 18. Ammareal doa até 15% do valor líquido deste artigo para instituições de caridade.
Resumo
Includes four chapters that discuss high-density plasma sources for materials processing, electron cyclotron resonance and its uses, unbalanced magnetron sputtering, and particle formation in thin film processing plasma.
Tema: Física
Tema: Física
Data de lançamento: Setembro De 1994
Tema: Física
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Data de lançamento: Setembro De 1994
Advances In Research And Development
Resumo
Includes four chapters that discuss high-density plasma sources for materials processing, electron cyclotron resonance and its uses, unbalanced magnetron sputtering, and particle formation in thin film processing plasma.
Tema: Física
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Data de lançamento: Setembro De 1994
Tema: Física
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Data de lançamento: Setembro De 1994
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Advances In Research And Development
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Características
- Editora
-
Elsevier Science Publishing Co Inc
- Idiomas
-
Inglês
- Número de páginas
-
328
- Encadernação
-
Capa Dura / Hardback
- Dimensão
-
229 x 152 x 21
- Peso
-
717
- Tema
-
Condensed matter physics (liquid state & solid state physics)|Plasma physics
- Origem
-
United States
- EAN
-
9780125330183
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